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HM-C-011
高溫納米氧化鎳旋涂漿料
稀納米分散技術稀釋：
NiO(20nm)漿料/乙醇/添加劑（重量比）
5克/10克/其它
厚度：~200納米
轉(zhuǎn)速：4000rpm, 90秒
燒結：300度60分鐘
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